專為熱成像系統前端防護設計，可有效保護感測器與鏡頭模組，降低灰塵、水氣與外部衝擊影響。

      支援 8–14μm LWIR 波段 

 

    硫基材保護蓋 Chalcogenide Cover Glass
  
      適用於廣泛的紅外應用，是鍺基材的理想替代品，窗鏡具有低dn/dt和色散，以及高色彩校正能力。低密度

      低熱膨脹係數和良好的化學抗性使其成為低SWaP（尺寸、重量和功率）應用以及溫度變化劇烈的惡劣環

      境中的絕佳選擇。

      •        塗層選項:AR /HR塗層、AR/AR 塗層

      •        可客製尺寸、厚度與外型 

 

    矽基材保護蓋 Silicon Infrared Cover Glass

      Silicon（Si）紅外保護蓋專為熱成像系統與紅外感測模組設計、高機械強度與良好環境耐受能力，可有效保

      護感測器與光學系統，提升整體模組穩定性與使用壽命。

      採用高精度光學加工與 AR（Anti-Reflection）鍍膜技術，可有效降低反射損耗，提供高穿透率與穩定

      的熱影像品質。

      •        高硬度與耐環境特性 

      •        優異抗刮與耐磨性能 

      •        支援 AR / DLC 鍍膜技術 

      •        可客製尺寸、厚度與外型

 

    ZnS 基材保護蓋 ZnS Cover Glass

      ZnS（Zinc Sulfide）紅外保護蓋專為高性能熱成像與紅外光學系統設計，具備優異的紅外穿透率、良好的機

      械強度與穩定的光學特性，可有效保護感測器與熱成像鏡頭，提升系統可靠度與影像品質。

      ZnS 材料具有良好的 8–12 μm 長波紅外線透光能力，搭配高精度光學加工與 AR（Anti-Reflection）鍍膜技

      術，可有效降低反射損耗，提供高對比、高解析度的熱影像表現。

      •        優異光學均勻性 

      •        良好機械強度與耐環境能力 

      •        支援 AR / DLC 鍍膜技術 

      •        可客製尺寸、厚度與外型 

      •        適用高可靠度熱成像系統